设备名录

PLD沉积腔和控制系统

  • 作者:
  • 发布时间:2016-09-26
  • 点击量:
设备编号 2015260700 仪器负责人 李山东
中文名称 PLD沉积腔和控制系统　 英文名称  Pulse    Laser Deposition System
规格型号  PLD-400型　 产地国别 中国
仪器安放地址 威斯尼斯人网页版中心校区西院科技馆四层401
主要科学领域 薄膜生长　
主要技术指标 真空度10-6Pa；样品加热最高温度800摄氏度；真空退火炉最高温度700摄氏度；内置四个靶材托可进行交替溅射；内置样品挡板可进行梯度溅射。　
主要功能    与激光器结合生长薄膜。　

 

上一篇：se-128061QD光学显微镜

友情链接

中国科学技术大学威斯尼斯人wns579 清华大学物理系 北京大学威斯尼斯人wns579 南京大学威斯尼斯人wns579 复旦大学物理系 北京师范大学物理学系 山东大学威斯尼斯人wns579

威斯尼斯人app官方下载

地址：青岛市宁夏路308号博逸楼  邮编：266071